ASML霸气发声：现有技术能让光刻机进入1纳米时代

近日，ASML中国官员在微信推送内容中表示创新，让摩尔定律焕发光彩。

推文中有一句令人印象深刻的话，那就是ASML表示：在元件方面，目前的技术创新足以将芯片工艺推广至少1纳米节点，包括gate-all-around FETs，nanosheet FETs，forksheet FETs，以及complementary FETs等许多前瞻性技术。

不过1nm虽然还没有商业化，但确实不是各大芯片厂商的重点。纳米时代结束后，将进入埃米时代，台积电，Intel都制定了雄心勃勃的埃米工艺早期路线图，为下一个时代做准备。